Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Name: Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Brand: Taylor & Francis Ltd
SKU: 9781032386737
Price: 69.84 EUR
Availability: InStock

Autor: Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

Jazyk:

Väzba: Brožovaná

Vydavateľ: Taylor & Francis Ltd

Dostupnosť: Skladom u dodávateľa

Odosielame za 9-15 dní

69.84 €

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Informácie o knihe

Autor

Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)

Jazyk

Angličtina

Väzba

Kniha - Brožovaná

Vydalo

2025

Stránok

354

EAN

9781032386737

Enbook ID

48234675

Vydavateľ

Taylor & Francis Ltd

Hmotnosť

700

Rozmery

156 x 234

Kompletný popis

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Mohlo by vás zaujímať

Zákazníci, ktorí si kúpili túto knihu, kúpili tiež

Najčastejšie vyhľadávané

Categories

Authors

Publishers

Produkty

Produkty

Najčastejšie vyhľadávané

Categories

Authors

Publishers

Produkty

Produkty

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Informácie o knihe

Kompletný popis

Mohlo by vás zaujímať

Zákazníci, ktorí si kúpili túto knihu, kúpili tiež