Kniha Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Jazyk: Angličtina
Väzba: Pevná
Vydavateľ: Taylor & Francis Ltd
Dostupnosť: Skladom u dodávateľa
Odosielame za 9-15 dní
232.59
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Informácie o knihe

Jazyk
Angličtina
Väzba
Kniha - Pevná
Vydalo
2023
Stránok
496
EAN
9781032386706
Enbook ID
43909170
Hmotnosť
662
Rozmery
156 x 234

Kompletný popis

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Mohlo by vás zaujímať

Burlington

Jean M. Martin
27.79

The Noel Diary

Richard Paul Evans
15.71
7.06
15.31
14.43
84.07
136.33
14.92

Action Research

Jean McNiff
40.07

Zákazníci, ktorí si kúpili túto knihu, kúpili tiež

13.35

Schutz vor Krebs

Dr.med. Michael Spitzbart
4.71

El eterno asombro

Pearl S. Buck
12.56
64.03
7.65
42.72

Be Bop a Lu La

Carl Perkins
10.30
23.76
38.30

Inane

Isabel Navarro Cerdán
16.69