Plasma Etching: Fundamentals and Applications

Autor: 
Jazyk: 
english
Väzba: 
Tvrdá
Počet strán: 
356
This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, befo ...Celý popis
279,00 €

Podrobné informácie

Viac informácií
ISBN9780198562870
AutorSugawara Minoru
VydavatelOxford Univ Pr
Jazykenglish
VäzbaPevná vazba
Rok vydania1998
Počet strán356

Popis knihy

This book focuses on the remarkable recent advances in understanding low pressure radio frequency glow discharges. It explains the basic analytical theory, plasma physics, and plasma diagnostics, before proceeding to the details of the etching process.

Prečo nakupovať na Enbooku?

  1. velký výběr

    VEĽKÝ VÝBER

    Ponúkame milióny kníh v angličtine. Od beletrie až po tie najodbornejšie odborné.

  2. poštovné zdarma

    POŠTOVNÉ ZADARMO

    Poštovné už od 2,99 € a pri objednávke nad 60 € doprava na pobočku Zásielkovne zadarmo

  3. skvělé ceny

    SKVELÉ CENY

    Ceny kníh sa snažíme držať pri zemi a vždy pod cenou odporúčanou vydavateľom, aby si ich mohol kúpiť naozaj každý.

  4. online podpora

    OVERENÉ ZÁKAZNÍKMI

    Získali sme certifikát "Overené zákazníkmi" na Heureka.sk. Prezrite si naše recenzie

  5. osobní přístup

    ONLINE PODPORA

    Môžete využiť online chat, email alebo nám zatelefonovať.